Nanociencia, Materiales y Procesos: Tecnología Química de Frontera (2013) |
Asignaturas |
NANOFABRICACIÓN Y NANOPROCESADO |
Contenidos |
DATOS IDENTIFICATIVOS | 2018_19 |
Asignatura | NANOFABRICACIÓN Y NANOPROCESADO | Código | 20705206 | |||||
Titulación |
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Ciclo | 2º | |||||
Descriptores | Cr.totales | Tipo | Curso | Periodo | ||||
4.5 | Optativa | AN |
Competencias | Resultados de aprendizaje | Contenidos |
Planificación | Metodologías | Atención personalizada |
Evaluación | Fuentes de información | Recomendaciones |
tema | Subtema |
Introducción. | Introducción y conceptos preliminares |
Capítulo 1. Técnicas de depósito y crecimiento | Proceso de crecimiento. Evaporación. Epitaxia de haces moleculares. Pulverización catódica. Depósito asistido por iones. Ablación mediante láser. Depósito de fase química Depósito asistido mediante plasma. Método de depósito de Langmuir-Blodgett. |
Capítulo 2. Llitografía ultravioleta y visible. | Concepto de litografía óptica. Litografía óptica convencional. Resinas. Instrumentación. La microelectrónica como la fuerza impulsora de la miniaturización. Límites de la litografía óptica. Litografía óptica avanzada. |
Capítulo 3. Litografía de haz de electrones. | Introducción a la litografía de haz de electrones. Óptica con electrones: Sistemas de litografía de haz de electrones (Electron beam lithography, EBL). Las interacciones electrones-materiales sólidos. Exposición: Resinas. Efectos de proximidad. Tecnología del proceso. Aplicaciones. |
Capítulo 4. Tecnología de haz de iones focalizado. | Interacción ion-sólido. Pulverización y redepósito. Acanalamiento. Electrones secundarios. Haces de iones focalizados (FIB). Ataque iónico y ataque iónico asistido por gas. Depósito por gas asistido por iones. Sistemas FIB de un solo haz y de doble haz. Litografía por haz de iones. Nanomanipulación. Aplicaciones. |
Capítulo 5. Técnicas litográficas no convencionales I: técnicas de AFM. | Litografías basadas en microscopías de campo cercano: Introducción a la microscopía de sonda de barrido. Resumen de los métodos litográficos de sonda de barrido. Manipulación atómica (STM). La manipulación de los objetos y las moléculas. Indentación / depósito local. Nanolitografía de oxidación local. Dispensado local de líquidos y moléculas (incluyendo Dip Pen nanolithography). Nanofabricación en paralelo. |
Capítulo 6. Técnicas litográficas no convencionales II: impresión, estampado, litografías suaves. | Litografías de estampado. Termoplásticos: temperatura de transición vítrea. Estampado en caliente y nanoimpresión. Curado de termoplásticos mediante luz ultravioleta. Replicado. Litografías suaves |
Capítulo 7. Procesado de capas. | Grabado mediante química seca y húmeda. Procesos de lift-off. Grabado reactivo y asistido mediante plasma. Grabado iónico. |
Capítulo 8. Procesos de fabricación global. | Fabricación de estructuras complejas utilizando las técnicas descritas en los temas anteriores. Propuesta de alternativas y complementariedad de técnicas. |