2015_16
Universitat
Rovira i Virgili
Guia docent 
Escola Tècnica Superior d'Enginyeria Química
A A 
català 
Nanociència, Materials i Processos: Tecnologia Química de Frontera (2013)
 Assignatures
  NANOFABRICACIÓ I NANOPROCESSAT
   Continguts
Tema Subtema
Introducció. Introducció i conceptes preliminars.
Capítol 1. Litografia ultraviolada i visible. Concepte de litografia òptica. Litografia òptica convencional. Resines. Instrumentació. La microelectrònica com la força impulsora de la miniaturització. Límits de la litografia òptica. Litografia òptica avançada.
Capítol 2. Litografia de feix d'electrons. Introducció a la litografia de feix d'electrons. Òptica amb electrons: Sistemes de litografia de feix d'electrons (Electron beam lithography, EBL). Les interaccions electrons-materials sòlids. Exposició: Resines. Efectes de proximitat. Tecnologia del procés. Aplicacions.
Capítol 3. Tecnologia de feix d'ions focalitzat. Interacció ió-sòlid. Polvorització i Redepòsit. Acanalament. Electrons secundaris. Feixos de ions focalitzats (FIB). Atac iònic i atac iònic assistit per gas. Dipòsit per gas assistit per ions. Sistemes FIB d'un sol feix i de doble feix. Litografia per feix d'ions. Nanomanipulació. Aplicacions.
Capítol 4. Tècniques litogràfiques no convencionals I: tècniques de AFM. Litografies basades en microscopies de camp proper: Introducció a la microscòpia de sonda de rastreig. Resum dels mètodes litogràfics de sonda de rastreig. Manipulació atòmica (STM). La manipulació dels objectes i les molècules. Indentació / repositori local. Nanolitografia d'oxidació local. Dispensat local de líquids i molècules (incloent Dip Pen nanolithography). Nanofabricació en paral•lel.
Capítol 5. Tècniques litogràfiques no convencionals II: impressió, estampat i tècniques d'AFM. Litografies d'estampat. Termoplàstics: temperatura de transició vítria. Estampat en calent i nanoimpressió. Curat de termoplàstics mitjançant llum ultraviolada. Replicat. Litografies suaus
Capítol 6. Tècniques de dipòsit i creixement.
Procés de creixement. Evaporació. Epitàxia de feixos moleculars. Polvorització catòdica. Dipòsit assistit per ions. Ablació amb làser. Dipòsit de fase química Dipòsit assistit mitjançant plasma. Mètode de dipòsit de Langmuir-Blodgett.
Capítol 7. Processament de capes. Gravat mitjançant química seca i humida. Processos de lift-off. Gravat reactiu i assistit mitjançant plasma. Gravat iònic.
Capítol 8. Processos de fabricació global. Fabricació d'estructures complexes utilitzant les tècniques descrites en els temes anteriors. Proposta d'alternatives i complementarietat de tècniques.